# 线性草图阵列

将一个或多个草图元素按照一个或两个方向排列有限个复制元素。详细参数及绘制步骤如下：

操作步骤

1.点击草图模块的线性草图阵列，打开线性草图阵列对话框。

2.对话框控件说明：

要阵列的元素：选择当前草图内的线条或绘制点作为阵列源；
- 可多选；
- 可拾取直线、圆弧、样条曲线、绘制点；
- 每段线条应作为单一元素选取，如多边形的每条边在拾取时都是单独的元素；
方向1：设置阵列方向1的参数，单击后面箭头可展开收起相关设置项。
- 方向1：拾取一条直线作为阵列方向；
  - 用户不拾取任何元素时，默认阵列方向为X轴。
- 距离：输入方向1上实例之间的间距，反向按钮可改变阵列方向；
- 实例数：输入方向1上实例数量；
- 与X轴角度：当方向1不拾取元素时，沿当前草图X方向逆时针旋转该选项的角度作为方向1；
  - 仅方向1拾取框为空时出现并生效，方向1拾取框拾取后此项隐藏且无效
- 标注方向1间距：用于控制是否生成距离尺寸标注
- 标注方向1实例计数：用于控制是否生成数量标注
方向2：设置阵列方向2的参数。
- 方向2勾选框：控制是否在方向2上生成实例；
- 与X轴角度默认值为90°;
- 其他设置项与方向1相同；
实例设置：设置“只阵列源、跳过实例”功能，单击后面箭头可展开收起相关设置项。
- “只阵列源、跳过实例”使用方式与实体模块线性阵列功能相同；

3.阵列后的元素添加“阵列”约束，生成的实例不自动生成“阵列”约束之外的其他约束/尺寸标注。

“阵列”约束使实例的几何形状与源保持同步，并保持实例间相对位置。
在存在“阵列”约束的前提下，修改数量标注改变阵列数量。
每次阵列生成的“阵列”约束是相关联的，删除任一实例上的“阵列”约束，与该实例同时生成的实例上的“阵列”约束被同时删除。如：进行一次阵列生成ABC，再进行一次阵列生成DEF；删除B上的“阵列”约束，ABC的“阵列”约束全部消失，DEF的“阵列”约束保持不变。
删除“阵列”约束后，实例和源的几何形状不再保持关联；尺寸约束不再控制实例间距，而是仅控制所标注的两元素间距离。

4.删除线条影响同步状态

5.实例线条生成参考线状态时与源一致。生成后可单独修改任意线的参考线状态，不受“阵列”约束影响。

6.在完成元素拾取，可以支撑该命令的创建时，鼠标右键显示确认标识，如下：

7.可通过点击右键确认创建，相当于确定按钮，可创建生成线性阵列；点击关闭则退出线性阵列。

8.阵列生成的元素支持编辑，如添加圆角等。